AI 반도체 산업, 기술 현황을 상세히 설명하고 있음

AI 반도체 혁명 - 3차 반도체 전쟁, 최후의 승자는 누가 될 것인가
권순우 외 지음 / 페이지2(page2) / 2024년 9월

AI 반도체 산업과 기술 현황을 읽을 수 있는 현장감 넘치는 수준 높은 도서입니다. 되풀이 해서 읽을 가치가 있는 책. 

그런데 오류가 잔뜩 들어있는 '2부'가 포함되어 있어 책의 다른 부분과 너무 어울리지 않습니다. 오류 몇 개만 적어보면 (1) p.80: '진 호르에니가 평판형 공정 기술을 개발한 공로로 1960년 노벨 물리학상을 수상했다'라고 적혀 있는데 1960년 즈음은 평면형(planar) 공정이 처음 개발되기 시작한 때이고 해서 1960년에 노벨상을 받았을 리 없고 실제 회르에니는 노벨상을 받은 적이 없습니다. 반도체 직접 회로 제조 기술과 관련해 노벨상(물리 분야)을 한번 수상했는데 때는 2000년이고 잭 킬비가 수상했습니다(노이스는 당시 세상을 떠난 상태라 수상 자격이 없었음). (2) p.89: 무어의 법칙은 '12~18개월에 집적도가 두 배씩 증가한다'는 것이 아니고 2년(24개월)에 그렇다는 겁니다. 한때 성능 개발이 빨라져 18개월에 두 배 증가하던 때도 있었지만 12개월은 아닙니다. (3) p.68: '브래튼과 바딘이 게르마늄 금속 조각을 붙여 전류가 흐르는 것을 최초로 확인'한 것은 아니고, 즉 그 현상은 이미 알려져 있었고 브래튼과 바딘이 한 일은 트랜지스터, 즉 (진공관이 아닌) 고체 반도체에서 증폭작용을 처음 구현한 것입니다. (4) p.69: 브래튼, 바든이 아니라 자신의 이름만 특허에 들어가야 한다고 쇼클리가 주장했다는 내용은 금시초문입니다. 실제 내용은 쇼클리가 반도체 증폭작용 연구를 진행했었고 특허도 썼었지만 연구에 진전이 없자 금속의 탄성/소성 분야(금속의 강도 연구. Dislocation 연구. 쇼클리 partial dislocation이란 것이 있습니다)로 연구 분야를 바꾸었고 증폭 연구는 바딘과 브래튼에게 넘겼는데 제대로 된 결과(point contact transistor)가 나오자 자신(쇼클리)의 이름도 발명자로 등록되어야 한다고 주장했던 적은 있습니다. 그 후 쇼클리 스스로가 보다 실용성 있고 실제 오랫동안 사용되던, 그리고 현재도 일부 분야(고전류 트랜지스터)에서 사용되고 있는 새로운 구조인 Bipolar Junction Transistor 구조를 고안해 내었습니다. 그래서 이 두 구조 발명의 공로로 세 사람이 노벨상을 공동 수상했습니다. (5) p.95: '세계 최초의 반도체 회사 자리는 인텔이 아닌 비지컴이 차지했을지도 모른다'고 적혀있는데 비지컴은 반도체 소자/칩을 제작하는 회사가 아닙니다. 반도체 회사 자체가 아닙니다. 당시, 비지컴은 사무실 탁상용 계산기를 만들어 파는 회사였습니다. 아울러 당시에는 이미 IBM, Texas Instrument, Rockwell 등 다수의 회사들이 반도체 칩을 생산하고 있었습니다. (6) p.64: '에니악이 매우 커서 사람이 컴퓨터 안에서 근무했다'고 하는데 에니악 사진을 보면 에니악 컴퓨터는 하나의 기기가 아니고 여러 모듈로 구성되어 있고 방의 벽면과 중앙에 위치해 있으며 모클리, 애커트, 여성 연구원 등이 그 모듈 앞에서 작업하는 것은 보여도 컴퓨터 안에 들어가 있는 것은 보이지 않습니다. 그리고 모듈의 크기가 사람이 들어가 작업할 크기가 아닙니다... 여기까지만 적어봅니다.